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贝意克磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备

品名: 贝意克磁力拉杆式硫化钼制备CVD设备
型号: BTF-1200C-CVD 磁力拉杆
  • 产品详情
  • 规格参数

此设备特点是将硫粉放于左端冷区,当硫化过程开始时利用拉杆式将硫粉推进热场。控制电路选用模糊PID程控技术,具有控温精度高,温冲幅度小,性能可靠,简单易操作。同样也适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。

技术参数

拉杆式硫化钼制备设备

炉管尺寸:

外径Φ25/50/60/80/100*1000mm(可选)

极限温度:

1200℃

工作温度:

≤1100 ℃

温度控制器:

PID自动控制晶闸管(可控硅)输出功率, 30段可编程控制器

升温速率:

≤50℃/min

加热区:

200+200mm

恒温区:

100+100mm

控温精度:

±1 ℃

电源:

单相220V,交流50Hz

3路质量流量供气系统

(触摸屏控制)

拉杆式硫化钼制备设备

**电压:

185~245V/50Hz

**输出功率:

18W

流量计标准量程:

100 ,200,500SCCM

(非特殊指定以氮气标定,量程可选定)

工作温度:

5~45 ºC

工作压差:

0.1~0.5 MPa

**压力:

3MPa

准确度:

±1.5% FS 

低真空系统

拉杆式硫化钼制备设备

抽速:

8.11 m³/h

极限总压:

3×10-3 mabr

进排气口:

DN 25 KF

噪音

(气镇开关时,距离1米处测量)

54 dB

注油量:

0.7- 1.1 L

重量:

21 Kg

工作温度:

10~40 ℃

功率:

550W